蚀刻产品用途都有哪些

发布时间:

2023/12/11 21:06

干法蚀刻和湿法蚀刻之间的主要区别在于成本。湿法蚀刻所用的化学药品并没有那么贵,设备本身的价格据说是干法蚀刻设备的1/10左右。此外,加工时间短,可同时加工多块基板,降低了生产成本。因此,我们可以将产品成本保持在较低水平,从而使我们比竞争对手更具优势。如果对加工精度要求不高,很多企业会选择湿法蚀刻进行粗略量产。

干法蚀刻和湿法蚀刻之间的主要区别在于成本。湿法蚀刻所用的化学药品并没有那么贵,设备本身的价格据说是干法蚀刻设备的1/10左右。此外,加工时间短,可同时加工多块基板,降低了生产成本。因此,我们可以将产品成本保持在较低水平,从而使我们比竞争对手更具优势。如果对加工精度要求不高,很多企业会选择湿法蚀刻进行粗略量产。

我们通过等离子体清洗机可以达到对产品进行有用的表面清洗、表面活化、表面蚀刻处理等作用。但不知大家对这些作用是否了解,在这里我们便会对其进行介绍,希望能够帮助到大家。

主要为六氟丙烯下游的含氟精细化学品,主营产品包括含氟医药农药中间体、氟橡胶硫化剂、氟聚合物改性共聚单体、半导体与显示用氟溶剂清洗剂、含氟表面活性剂、半导体与数据中心含氟冷却液、润滑脂与全氟聚醚基础油及真空泵油、柔性显示与半导体用氟聚酰亚胺单体、IC蚀刻与电力绝缘气体、光刻胶与防污防潮涂层氟单体等十大系列。

等离子表面粗化与蚀刻效果:对应不同的材料采用相应的气体组合构成具有激烈蚀刻性的气相,等离子体与处理产品发生化学反应及物理反应,使材料本身外表的固态物质被气化,生成如CO、CO2、H2O等气体,然后到达微蚀刻的意图,其特点是刻蚀均匀,不改动资料基体特性,并能粗化物体表面。

高纯化学品主要用于半导体、光伏太阳能电池、和平板显示等电子信息产品的清洗、蚀刻等工艺环节。以半导体为例,不同线宽的集成电路制程工艺中必须使用不同规格的高纯化学品进行蚀刻和清洗,且高纯化学品的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。

目前,已完成由纯生产型企业转化为生产与装备制造相结合的产业结构调整,国内首条卷式无缝对接生产线建成投产;总投资的竣工投产,将光学蚀刻工艺和冷冲制工艺实现高度融合和互补,在巩固常规产品市场的同时,完成高端蚀刻产品批量品质稳定性技术攻关,突破光学蚀刻配比液控制精度瓶颈,新建卷式生产线全线贯通,整体产能提升200%。

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